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產(chǎn)品中心

當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心電鏡樣品制備鍍膜儀INS-11MC磁控濺射鍍膜儀
磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品簡介

磁控濺射鍍膜儀:一鍵鍍膜,全自動(dòng)操作;7寸觸摸屏,工作參數(shù)實(shí)時(shí)查看

產(chǎn)品型號(hào):INS-11MC
更新時(shí)間:2026-01-29
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
訪問量:118
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INS-11MC


?一鍵鍍膜,全自動(dòng)操作

?7寸觸摸屏,工作參數(shù)實(shí)時(shí)查看

?鍍膜過程樣品無溫升適用范圍更廣

?抽氣效率高2分鐘內(nèi)開始鍍膜

?磁控濺射,薄膜顆粒更小滿足
  高分辨率看樣需求

?標(biāo)配旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)薄膜均勻性更好


主要參數(shù)

外形尺寸

330(L)×300(H)×370(D) mm

顯示屏

7 英寸觸摸屏、全數(shù)字顯示

可用靶材

Au、Pt、Cu、Ag、Pd等

靶材尺寸

Φ50mm,厚度支持0.1-2mm

工作電流

1-50mA可調(diào)

鍍膜時(shí)間

1-9999s可調(diào)

真空泵

旋片式真空泵(可選干泵)

真空泵抽速

1.1L/s

真空室

φ130×100mm 高強(qiáng)度玻璃

極限真空

≤0.5Pa

工作介質(zhì)

氬氣或氮?dú)猓諝猓?/span>

工作真空

1-20Pa可調(diào)

供電

AC220V/50Hz

額定功率

500W

樣品臺(tái)

Φ80mm,可放置14個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品座,與靶材距離20-45mm可調(diào)節(jié),標(biāo)配旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)

其它

真空度、工作電流可實(shí)時(shí)曲線顯示



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