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PRODUCTS CENTER

產(chǎn)品中心

當(dāng)前位置：首頁產(chǎn)品中心電鏡樣品制備鍍膜儀INS-MINi基礎(chǔ)版磁控濺射鍍膜儀

基礎(chǔ)版磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品簡介

鍍膜過程樣品無溫升滿足生物等溫度敏感材料的鍍膜需求

產(chǎn)品型號(hào)：INS-MINi
更新時(shí)間：2026-01-30
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
訪問量：95
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INS-MINi


?一鍵鍍膜，全自動(dòng)操作

?鍍膜過程樣品無溫升滿足生物等溫度敏感
材料的鍍膜需求

?磁控濺射，薄膜顆粒更小滿足高分辨率看樣需求

?液晶觸摸屏，工作參數(shù)實(shí)時(shí)查看

?抽氣效率高2分鐘內(nèi)開始鍍膜


?支持Au/Pt/Ag靶材


主要參數(shù)

外形尺寸

245(L)×270(H)×360(D) mm

顯示屏

5 英寸觸摸屏、全數(shù)字顯示

可用靶材

Au、Pt、Ag

靶材尺寸

Φ38mm，厚度支持0.1-2mm

工作電流

1-35mA可調(diào)

鍍膜時(shí)間

1-9999s可調(diào)

真空泵

旋片式真空泵（可選干泵）

真空泵抽速

1.1L/s

真空室

φ100×80mm 高強(qiáng)度玻璃

極限真空

≤0.5Pa

工作介質(zhì)

氬氣或氮?dú)猓諝猓?/span>

工作真空

1-20Pa可調(diào)

供電

AC220V/50Hz

額定功率

500W

樣品臺(tái)

Φ80mm，可放置14個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品座，與靶材距離20-45mm可調(diào)節(jié)

其它

真空度、工作電流實(shí)時(shí)顯示



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